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對(duì)浮槽側(cè)面9 個(gè)區(qū)域進(jìn)行開(kāi)孔：每個(gè)區(qū)鉆5 排孔，間隔為15mm，直徑5mm。如圖6 所示： 

測(cè)試其總體COV 為13.4%，深方向平均銅厚差異為3.6um，如下圖7 所示。說(shuō)明還得想辦法使得最底部的電力線分布再稀疏些。 

圖7 浮槽側(cè)面開(kāi)5mm 圓孔后測(cè)試的銅厚分布圖 

6.3 浮槽圓孔優(yōu)化： 

對(duì)浮槽側(cè)面區(qū)域：鉆四排孔，第一排為直徑10mm，其余三排直徑為5mm，孔中心間距都為15mm。 

改造后測(cè)試總體COV 為10.3%，深方向鍍銅厚度平均差異為2.6um，已小于3um 目標(biāo)，如圖9 所示：板子最底部的銅厚分布差異有所減小，達(dá)到改造預(yù)期要求。 

圖8 浮槽側(cè)面圓孔優(yōu)化改造示意圖 

7、改造后總體測(cè)試效果： 

結(jié)合5.2 和6.3 的改造結(jié)論，對(duì)其余7 個(gè)電鍍缸進(jìn)行了全面改造----在每個(gè)缸體上增加了陽(yáng)極擋板，對(duì)每個(gè)缸浮槽進(jìn)行開(kāi)孔改造。改造后我們隨即抽取15#電鍍缸進(jìn)行測(cè)試，以便確認(rèn)改造效果。 

圖9 浮槽側(cè)面圓孔優(yōu)化后www.pcblover.com正面深方向銅厚分布圖 

圖10 全面改造后15#缸正面深方向銅厚分布圖 

深方向鍍銅厚度差異為2.8um，整板COV為7.9%，與在12# 缸測(cè)試的結(jié)果比較接近，符合改造目標(biāo)要求，如圖10 所示。 

8、結(jié)束語(yǔ)： 

歷經(jīng)多次電鍍均勻性的測(cè)試和設(shè)備改造，該圖形電鍍線的電鍍均勻性從原來(lái)的20.8%，提高到了改善后的10.3%。深方向平均銅厚的差異也由原來(lái)的8.9um 降低到小于3um。目前間距為3.5mil板加工時(shí)，夾膜以及銅厚問(wèn)題基本得到改善。