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1、前言

隨著PCB工業(yè)的發(fā)展,各種導(dǎo)線之阻抗要求也越來(lái)越高，這必然要求導(dǎo)線的寬度控制更加嚴(yán)格。為了使榮信公司的工程管理人員，尤其是負(fù)責(zé)蝕刻工序的工藝工程人員對(duì)蝕刻工序有一定的了解，故撰寫此份培訓(xùn)教材，以期有助于生產(chǎn)管理與監(jiān)控，從面提高我司的產(chǎn)品品質(zhì)。(本教材以設(shè)備為基礎(chǔ)對(duì)蝕刻工藝進(jìn)行講解)

2.基礎(chǔ)知識(shí)

1）蝕刻的目的

蝕刻的目的即是將前工序所做出有圖形的線路板上的未受保護(hù)的非導(dǎo)體部分銅蝕刻去，形成線路。

蝕刻有內(nèi)層蝕刻和外層蝕刻，內(nèi)層采用酸性蝕刻，濕膜或干膜為抗蝕劑；外層采用堿性蝕刻，錫鉛為抗蝕劑。

2）蝕刻反應(yīng)基本原理

一.酸性氯化銅蝕刻液 

1.特性

－蝕刻速度容易控制，蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量

－蝕銅量大

－蝕刻液易再生和回收

2.主要反應(yīng)原理

蝕刻過(guò)程中，CU2+有氧化性，將板面銅氧化成CU+：Cu+  CuCl2→2CuCl

生成的CuCl不溶于水，在過(guò)量的氯離子存在下，生成可溶性的絡(luò)離子：

2CuCl＋4Cl-→2[CuCl3]2-

隨著反應(yīng)的進(jìn)行，CU+越來(lái)越多，蝕銅能力下降，需對(duì)蝕刻液再生，使CU+變成CU2+。再生的方法有以下幾種:通氧氣或壓縮空氣再生（反應(yīng)速率低)，氯氣再生(反應(yīng)快，但有毒)，電解再生（可直接回收銅，但需電解再生的設(shè)備和較高的電能消耗），次氯酸鈉再生（成本高，本身較危險(xiǎn)），雙氧水再生（反應(yīng)速率快，易控制).

反應(yīng)：2CuCl+2HCl+H2O2→2CuCl2+2H2O

自動(dòng)控制添加系統(tǒng)：通過(guò)控制蝕刻速度，雙氧水和鹽酸的添加比例，比重和液位，溫度等項(xiàng)目，達(dá)到自動(dòng)連續(xù)生產(chǎn)。

我司采用此種再生方法。

二.堿性氨類蝕刻液  

1.特性

－不與錫鉛發(fā)生任何反應(yīng)

—易再生，成本低，易回收

－蝕銅速度快，側(cè)蝕小，溶銅能力高，蝕刻速率易控制

2.主要反應(yīng)原理  

Cu+Cu(NH3)4Cl2→2Cu(NH3)2Cl

4Cu(NH3)2Cl + 4NH3H2O + 4NH4Cl + O2 → 4Cu(NH3)4Cl2+6H2O 

以上兩反應(yīng)重復(fù)進(jìn)行,因此需要有良好抽氣,使噴淋形成 負(fù)壓,使空氣中的氧氣與藥液充分混合,從而利于蝕刻反應(yīng)進(jìn)行。注意抽氣不可過(guò)大,否則造成氨水消耗量的增大.