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－蝕刻

定義: 用蝕板液將多余的底銅蝕去剩下已加厚的線(xiàn)路。

控制：隨著反應(yīng)不斷進(jìn)行,藥液中氨水不斷降低,銅離子不斷增加,為保持蝕銅速度,必需維持藥水的穩(wěn)定.我司通過(guò)PH計(jì),比重計(jì)控制氨水和新液的自動(dòng)添加,當(dāng)PH值低時(shí)添加氨水;當(dāng)比重高時(shí)添加新液.為使之蝕銅反應(yīng)進(jìn)行更為迅速，蝕液中多加有助劑，例如：

a.加速劑(Accelerator) 可促使上述氧化反應(yīng)更為快速，并防止亞銅錯(cuò)離子的沉淀。

b.護(hù)岸劑(Bankingagent) 減少側(cè)蝕。  

c.壓抑劑(Suppressor)抑制氨在高溫下的飛散，抑制銅  的沉淀加速蝕銅的氧化反應(yīng)。

－新液洗

使用不含有銅離子的NH3.H2O, NH4Cl溶液清除板面殘留的藥液以及反應(yīng)生成物Cu(NH3)2Cl ,其極不穩(wěn)定，易生成沉淀。

－整孔

除去非鍍通孔中的在沉銅工序所吸附上去的鈀離子, 以防在沉金工序沉上金.

－褪錫

使用含銅保護(hù)劑的主要成分為硝酸的藥液，褪去線(xiàn)路上的錫鉛層,露出線(xiàn)路

4）名詞解釋

水池效應(yīng)

在蝕刻過(guò)程中，線(xiàn)路板水平通過(guò)蝕刻機(jī)時(shí)，因重力作用在板上面新鮮藥液被積水阻撓,無(wú)法有效和銅面反應(yīng)，稱(chēng)之水池效應(yīng)。而下面則無(wú)此現(xiàn)象。

蝕刻因子

蝕刻液在蝕刻過(guò)程中，不僅向下而且對(duì)左右各方向都產(chǎn)生蝕刻作用，側(cè)蝕是不可避免的。側(cè)蝕寬度與蝕刻深度之比稱(chēng)之為蝕刻因子。

Etching Factor(蝕刻因子)＝D/C

Undercut=(A-B)/2

5）設(shè)備

－內(nèi)外層均采用水平線(xiàn)設(shè)備。

－對(duì)于堿性蝕刻，為增加蝕刻速度，需提高溫度到46℃以上，因而有大量的氨臭味必須要有適當(dāng)?shù)某轱L(fēng)；抽風(fēng)太大則將氨氣抽走比較浪費(fèi)，在抽風(fēng)管內(nèi)增加節(jié)流閥，控制抽風(fēng)的強(qiáng)度。

－無(wú)論何種蝕刻液，都需采用高壓噴淋；為獲得較整齊的線(xiàn)條側(cè)邊和高質(zhì)量的蝕刻效果，須嚴(yán)格選擇噴嘴的形狀和噴淋方式。但不論如何選擇，都遵循一基本理論，那就是以最快速度的讓欲蝕刻銅表面接觸愈多新鮮的蝕刻液。

－噴嘴的形狀有錐形（空錐形，實(shí)錐形），扇形等，我司采用的是扇形噴嘴。與錐形噴嘴相比，最佳的設(shè)計(jì)是扇形噴嘴。注意集流管的安裝角度，能對(duì)進(jìn)入蝕刻槽內(nèi)的制板進(jìn)行30度噴射。第二組集流管與第一組比有所不同，因噴淋液互相交叉時(shí)會(huì)降低噴淋的效果，盡量避免出現(xiàn)此種情況。